簡易檢索 / 詳目顯示

研究生: 徐鴻特
論文名稱: 真空中絕熱膨脹作用之探討
指導教授: 張似瑮
口試委員:
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 原子科學院 - 生醫工程與環境科學系
Department of Biomedical Engineering and Environmental Sciences
論文出版年: 2002
畢業學年度: 90
語文別: 中文
論文頁數: 75
中文關鍵詞: 二次離子質譜絕熱膨脹
相關次數: 點閱:3下載:0
分享至:
查詢本校圖書館目錄 查詢臺灣博碩士論文知識加值系統 勘誤回報
  • 本實驗主要研究水在真空系統中的來源。利用不同的壓力的水氣混合氮氣進行絕熱膨脹,探討在短時間內的抽氣時,空間中的水氣附著於樣品表面的情況。以SIMS(Secondary Ion Mass Spectrometry)方法觀察樣品表面水氣訊號的增減情況。由於儀器的改善,在量測背景值上獲得成果:(1)量測到樣品靜置於分析腔中,附著於樣品表面的水氣分子量。(2) 在傳送樣品後,可以使分析腔於6分鐘左右恢復至平時維持的氣壓,降低經由傳送樣品時所引進的水氣分子,並且可以估計經由傳送樣品動作所導入的[OH-]訊號增加量。絕熱膨脹作用之探討方面,可以看到水氣混合氮氣,進行抽氣行為後,樣品表面上的[OH-]訊號隨之增加,表示絕熱膨脹作用可能有伴隨在抽氣的行為裡。


    目錄 論文摘要------------------------------------------ I 致謝--------------------------------------------- II 目錄-------------------------------------------- III 表目錄------------------------------------------- V 圖目錄------------------------------------------- VI 一、引言------------------------------------------ 1 二、原理------------------------------------------ 5 1. 二次離子質譜儀分析原理----------------------- 5 a.靜態二次離子質譜分析---------------------- 6 b.深度剖面分析------------------------------ 6 2. 絕熱膨脹原理--------------------------------- 7 3. 吸附----------------------------------------- 7 a.吸附力------------------------------------ 7 b. 吸附過程之相關係數------------------------------ 8 4. 釋氣原理------------------------------------- 9 三、實驗系統與方法------------------------------- 11 1. 實驗系統------------------------------------ 11 a. 曝水腔(Exposure chamber)---------------- 11 i. 系統簡介---------------------------- 11 ii. 水氣混和及曝水--------------------- 12 b. 準備腔(Preparation chamber)------------- 14 i. 系統簡介---------------------------- 14 c. 分析腔(Main chamber)-------------------- 15 i. 系統簡介---------------------------- 15 ii. 系統改善後的效果------------------- 16 iii. 樣品SIMS分析步驟----------------- 16 iv. 樣品分析方法----------------------- 18 v. 模擬樣品傳送動作------------------------- 19 2. 實驗樣品------------------------------------ 20 a. 樣品製造-------------------------------- 20 b. 化學清洗-------------------------------- 20 四、結果與討論----------------------------------- 22 1. 背景值的估計--------------------------------- 22 a. 實驗結果-------------------------------------- 22 b. 數據分析--------------------------------------- 23 c. 實驗誤差探討----------------------------------- 26 2. 絕熱膨脹的效應------------------------------ 26 a. 實驗結果-------------------------------------- 26 b. 數據分析--------------------------------------- 28 c. 實驗誤差探討----------------------------------- 30 五、結論----------------------------------------- 31 六、參考文獻------------------------------------- 33 附錄、SIMS儀器工作原理-------------------------- 68 表目錄 表3-1、鋁合金A6063組成成分(%)----------------- 36 表3-2、 HNO3成分表------------------------------- 37 表3-3、 HF成分表--------------------------------- 38 表4-1、 SIMS負離子分析條件----------------------- 39 表4-2、 離子束在不同物質下的濺射率--------------- 40 表4-3、曝水量與[OH-] 訊號增加量------------ 41 表4-4、樣品靜置於分析腔中,時間與[OH-] 訊號增加量------- 42 圖目錄 圖2-1、二次離子產生示意圖---------------------------- 43 圖2-2、物理吸附與化學吸附的位能曲線示意圖---------------- 44 圖2-3、Langmuir之吸附等溫圖------------------------------ 45 圖2-4、典型的氣壓與抽氣時間關係曲線--------------------- 46 圖3-1、實驗系統示意圖----------------------------------- 47 圖3-2、系統改善前後,分析腔之氣壓與抽氣時間關係圖-------- 48 圖3-3、系統改善後,準備腔之氣壓與抽氣時間關係圖----------- 49 圖3-4、曝水前與曝水後之負離子質譜圖--------------- 50 圖3-5、一次離子電流,[OH-] 訊號對抽氣時間關係圖----------- 51 圖3-6、濺射6小時前後,電流與負偏壓關係圖--------------- 52 圖3-7、濺射6小時前後,電流與正偏壓關係圖--------------- 53 圖3-8、樣品經6小時濺射後,電流與時間關係圖------------- 54 圖4-1、樣品傳送動作後- [OH-]訊號與時間關係圖------------- 55 圖4-2、樣品傳送動作後–[OH-]訊號增加量與曝水量關係圖----- 56 圖4-3、樣品靜置於分析腔中,[OH-]訊號增加量與時間關係圖--- 57 圖4-4、樣品傳送後,[OH-]訊號增加量與分析腔最高氣壓之關係圖-------------------------------------------------------- 58 圖4-5、樣品傳送時,[OH-]訊號增加量與曝水腔氣壓(開啟GV-EP時)之關係圖------------------------------------------------ 59 圖4-6、水氣(6.8 torr)混合氮氣後,[OH-]訊號增加量與導入氮氣氣壓關係圖------------------------------------------------ 60 圖4-7、水氣(9.3 torr)混合氮氣後,[OH-]訊號與一次離子劑量關係圖(1)--------------------------------------------------- 61 圖4-8、水氣(9.3 torr)混合氮氣後,[OH-]訊號對一次離子劑量關係圖(2)--------------------------------------------------- 62 圖4-9、水氣(2.9 torr)混合氮氣後,[OH-]訊號對一次離子劑量關係圖------------------------------------------------------ 63 圖4-10、水氣混合氮氣後,[OH-]訊號增加量與一次離子劑量關係圖(1)----------------------------------------------------- 64 圖4-11、水氣(2.87 torr)混合氮氣後,[OH-]訊號對一次離子劑量關係圖---------------------------------------------------- 65 圖4-12、水氣混合氮氣後,[OH-]訊號增加量與一次離子劑量關係圖(2)----------------------------------------------------- 66 圖4-13、水氣(1.35 torr)混合氮氣後,[OH-]訊號與一次離子劑量關係圖---------------------------------------------------- 67

    六、參考文獻
    1. 劉遠中,陳俊榮,曾湖興,徐武雄,超高真空系統的研究,核子科學 21(3) (1985)。pp. 168
    3. 劉遠中,王德正,謝澄銀,陳定全,徐武雄,陳俊榮,曾湖興,許憲能,超高真空系統的研究(二),核子科學 22(4) (1986)。pp. 272
    4. A. G. Mathewson, J. P. Bacher, K. Booth, R. S. Calder, G. Dominichini, A. Grillot, N. Hilleret, D. Latorre, F. LeNormand, and W. Unterlerchner, “Comparison of chemical cleaning methods of aluminum alloy vacuum chambers for electron storage rings,” J. Vac. Sci. Technol. A7(1) (1989). pp.77
    5. Miran Mozetič, “Discharge cleaning with hydrogen plasma,” Vacuum 61 (2001). pp. 67-371
    6. A. Itoh, Y. Ishikawa, and T. Kawabe, “Reduction of outgassing from stainless-steel surfaces by glow discharge cleaning,” J. Vac. Sci. Technol. A6(4) (1998).
    7. J. R. Chen, G. Y. Hsuing, and Y. C. Liu, “Secondary ion mass spectroscopy analysis for aluminum surfaces treated by glow discharge cleaning,” J. Vac. Sci. Technol. A13(3) (1995).
    8.CRC Handbook of Chemistry and Physics, 74th ed (1993-1994). pp. 9
    9. R. A. Nevshupa, J. L. de Segovia, “Outgassing from stainless steel under impact in UHV,” Vacuum 64 (2002). pp. 425-430
    10. W. Bock, H. Gnaser, H. Oechsner, “Secondary-neutral and secondary-ion mass spectrometry analysis of TiN-based hard coatings: an assessment of quantification procedures,” Analytic chimica acta 297 (1994). pp. 277-283
    11. 陳俊榮,曾湖興,劉遠中,鋁合金超高真空系統的研究,核子科學 24(1) (1987)。pp. 25
    12. J. R. Chen, K. Narushima, and H. Ishimaru, “Thermal outgassing from aluminum alloy vacuum chambers,” J. Vac. Sci. Technol. A3(6) (1985). pp. 2188
    13. John F. O’Hanlon, “A User’s Guide to Vacuum Technology,” Wiley-Interscience Publication, New York (1980). pp. 131
    14. John F. O’Hanlon and Jhy-Jer Shieh, “Reduction of aerosol contamination during pumping of a vacuum chamber from atmospheric pressure,” J. Vac. Sci. Technol. A9(5) (1991). pp. 2802
    15. H. F. Dylla, D. M. Manos, and P. M. LaMarche, “Correlation of outgassing of stainless and aluminum with various surface treatments,” J. Vac. Sci. Tecnol. A 11 (1993). pp. 2623
    16. 劉遠中,黃俊儒,吳宗岳,陳俊榮,以不同溼度之氣體研究鋁合金表面熱釋氣,真空科技 5(3/4) (1992)。pp. 8
    17. 陳菁華,以二次離子質譜分析分析水在鋁合金表面的行為,國立清華大學原子科學所,碩士論文,新竹市,1999。
    18. 陳志敬,鋁合金表面水釋氣之研究,國立清華大學原子科學所,碩士論文,新竹市,2000。
    19. 沈宗翰,水氣在鋁合金表面的分佈與變化,國立清華大學原子科學所,碩士論文,新竹市,2001。
    20.楊凱淵,利用PSD方法研究鋁合金表面水釋氣行為,國立清華大學原子科學所,碩士論文,新竹市,2000。
    21. 楊佳螢,水氣在光子激發釋氣實驗系統中的行為探討,國立清華大學原子科學所,碩士論文,新竹市,2001。
    22. A. Benninghoven, F. G. Rundenauer, and H. W. Werner, “Secondary ion mass spectroscopy-basic concepts, application and trends,”, Weiley-Interscience Publication, New York (1987). pp. 1-4
    23. Hubert Gnaser, “Exponential scaling of sputtered negative-ion yield with transient work function changes on Cs+-bombarded surfaces,” Phy. Rev. B 54(23) (1996). pp. 16456-16458
    24. P. A. W. van der Heide, “Cesium-induced transient effects on the Si+ and Si- secondary ion emissions from Si and SiO2,” Surface science 447 (2000). pp. 62-72
    25. Enrico Fermi, “Thermodynamics,” Dover Publication, New York(1936). pp. 25-26
    26. J. R. Chen, G. Y. Hsiung, Y. J. Hsu, S. H. Chang, C. H. Chen, W. S. Lee, J. Y. Ku, C. K. Chan, L. W. Joung, W. T. Chou, “Water adsorption-desorption on aluminum surface,” Applied surface science 169-170 (2001). pp. 679-684
    27. 真空科技與應用,第四章、第八章,國科會精密儀器發展中心,新竹(2001)。

    無法下載圖示 全文公開日期 本全文未授權公開 (校內網路)
    全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)
    QR CODE