本論文要探討在非晶質碳膜 (a-C:H)上，以電漿射束代替傳統棉刷刮磨製程，作為液晶元件之配向層的製程技術。研究採用電容式電漿在ITO上沈積a-C:H膜，為瞭解電容式電漿沈積參數對a-C:H膜之影響，利用OES(optical emission spectrum)量測電漿之組成特性，並藉由調整沈積製程參數，如RF Power、沈積時間、氣體組成、工作氣壓等，控制a-C:H膜的性質，以Raman光譜、FESEM分析a-C:H膜之性質，以期找出適合作為液晶配向層之製程參數。目前最佳的低溫a-C:H膜製程為CH4/H2氣體比例50%，RF功率100W，沈積時間15min，工作氣壓10mtorr。
a-C:H膜經電漿射束處理後，組裝2*3cm2的TN cell(twist nematic)，藉由調整電漿射束製程參數，如：Voltage、處理時間、氣體組成、工作氣壓、入射角度等，控制液晶配向的效果，以偏光顯微鏡及量測預傾角來判斷其配向效果。
電漿射束製程有潛力成為新的非接觸式液晶配向技術，目前已成功地在a-C:H膜上完成均勻的液晶配向並有液晶預傾角（10∼3.50），經電漿射束製程的a-C:H膜具液晶配向性以及預傾角之原因為表面具有方向性之C-O鍵結。

75
[1] P. Chaudhari et al., Nature 411, 56 (2001).
[2] Jeoung-Yeon et al. Jpn. J. Appl. Phys. 41, L654 (2002)
[3] S.-C.A. Lien, P. Chaudhari et al, IBM J. RES. DEVELOP. 42
(1998)
[4] Jeoung-Yeon Hwang et al, Jpn. J. Appl. Phys. 41, L654 (2002)
[5] Soon Joon Rho et al, Thin Solid Films 420-421, 259 (2002)
[6] Kie Moon Song et al, J Jpn. J. Appl. Phys.43, 1577 (2004)
[7] J.P. Doyle P. Chaudhari et al, Nuclear Instruments and
Methods in Physics Research B 206, 467 (2003)
[8] P. J. Shannon, W. M. Gibbons, S. T. Sun, Nature 368, 532
(1994).
[9] M. Schadt, H. Seiberle, A. Achuster, Nature 381, 212 (1996).
[10] P. Chaudhari, J. Lacey, A. Lien, J. Speidell, Jpn, J. Appl.
Part 2 Lett. 37, L55 (1998).
[11] J.Schwan, S. Ulrich, V. batori, J. Appl.Phys. 80, 440
(1996)
[12] J. Robertson, Materials Science and Engineering R 37, 129
(2001)
[13] Andrea Carlo Ferrari, Diamond and Related Materials 11,
1053 (2002)
[14] C. Casiraghi et al, Diamond and Related Materials 13, 1480
(2004)
[15] Je-deok Kim et al, Surface and Coatings Technology,
135-139 (2003)
[16] O. Yaroshchuk et al, Liquid Crystal 31, 859 (2004)
[17] D. W. Berreman, Physics Review Letter 28, 1683 (1972),
[18] J.Stohr, Journal of Electron Spectroscopy and Related
Phenomena 98-99, 189 (1999)
[19] J. Stohr, et al, Science 292, 2292 (2001)
[20] A. Rastegar ,et al ,Journal of Applied Physics 89, 960
(2001)
[21] Xuemin Lu, et al, Liquid Crystal 30, 985 (2003)
[22] Jong-Hyun Kim, et al, Nanotechnology 13, 133 (2002)
[23] P. Merel, et al, Applied Surface Science 136, 105 (1998)
[24] Handbook of X-ray Photoelectron Spectroscopy,
Rerkin-Elmer corporation, Physical Electron Division
[25] W. M. Gibbons, P. J. Shannon, S. T. Sun, B. J. Swetlin,
Nature 351, 49 (1991).