研究生: |
羅緯 |
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論文名稱: |
拋光機台投入效率標準制定 Establishment of Polisher Input Efficiency Standards |
指導教授: | 許棟樑 |
口試委員: | |
學位類別: |
碩士 Master |
系所名稱: |
工學院 - 工業工程與工程管理學系 Department of Industrial Engineering and Engineering Management |
論文出版年: | 2010 |
畢業學年度: | 98 |
語文別: | 中文 |
論文頁數: | 86 |
中文關鍵詞: | 設備總體投入效率 、化學機械研磨製程 、人機配置 、田口方法 、逐步迴歸法 |
外文關鍵詞: | Overall Input Efficiency, Chemical Mechanical Polishing, Operator-Machine Configuration, Taguchi Method, Stepwise Regression |
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本研究針對拋光機的理想投入量制定其標準值,目的在於希望能夠測量設備的使用效率,而在投入面中,可將投入分為原材料、人力、廠務,以及耗材。我們對於拋光機的投入項目做分析並建立其理想之最小投入標準值,此標準將可被應用在量測拋光機之設備總體投入效率(OIE),配合綜合設備效率(OEE)使用後更將可計算出機台之設備總體效率(TEE)。
人力投入效率方面,對於一機一線及多機一線的設備,我們建立一般性的模式以求得技術員之理想投入量。針對拋光機做研究後,發現其人力投入效率將有可能提升為兩倍。
研磨液投入方面,本研究成功的使用田口方法,以一個反向的方式,找出研磨液之最佳投入值並同時滿足設備之目標產出量。本研究同時也對於其他投入項目,建立每單位晶圓之理想投入標準值。本研究使用的方法也將可應用在其他不同類型的設備機台,例如當完整的物理或化學公式為未知時,以理論方式計算其理想投入量是非常困難的,此時即可應用本研究的方法加以研究之。
I. 英文文獻
P. Beaud, D. Bouvet, P. Fazan, E. Jacquinot, H. Aoki, and T. Aoki (2003), Mat. Res.Soc. Symp. Proc., 767, 141-151.
M. Bielmann, U. Mahajan, and R. K. Singh (2003), Mat. Res. Soc. Symp. Proc., 767,103-108.
J.Y. Choi, H.J. Kim, J.H. Park, S. Chung, H. Jeong, and M. Kinoshita (2004), A Study on Manufacture and Evaluation of CMP Pad with Micro-structure, 7th International Symposium on Advances in Abrasive Technology.
G. S. Grover, H. Liang, S. Ganeshkumar, and W. Fortino (1998), Wear, 214, 10.
S. Hymes, K. Smekalin, T. Brown, H. Yeung, M. Joffe, M. Banet, T. Park, T. Tugbawa, D. Boning, J. Nguyen, T. West, and W. Sands (2000), Mat. Res. Soc. Symp. Proc., 566, 211-216.
M. Hariharaputhiran, Y. Li, S. Ramarajan, and S. V. Babu (2000), Electrochem.Solid-StateLett. 3 (2), 95-98.
A. Kaller, and Mschr. Feinmech (1962), Opt., 79, 135.
Y. Li, M. Hariharaputhiran, and S. V. Babu (2001), J. Mater. Res., 16(4), 1066-1073.
Y. Li, S. Ramarajan, M. Hariharaputhiran, Y. S. Her, and S. V. Babu (2000), Mat. Res.Soc. Symp. Proc., 613, E2.4.1-E2.4.6.
U. Mahajan, M. Bielmann, and R. Singh (2000), Mat. Res. Soc. Symp. Proc., 566, 27-32.
J.-G. Park, S.-H. Lee, H.-G. Kim, H.-D. Jeong, and D.-K. Moon (2000), Mat. Res. Soc.Symp. Proc., 566, 173-178.
D. D. Sheu (2006), Overall Input Efficiency and Total Equipment Efficiency, IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Vol. 19, NO. 4.
D. D. Sheu, and J. Hsueh (2008),Analysis of operator-machine configuration for single and multi-processor machines, International Journal of Production Research.
J. M. Steigerwald, S. P Murarka, and R. J. Gutmann (1997), Chemical Mechanical Planarization of Microelectronic Materials, John Wiley & Sons, Inc., New York, chapter 4.
Z. Stavreva, D. Zeidler, M. Plotner, and K. Drescher (1997), Applied surface science, 108, 39-44.
W.-T. Tseng, and Y. L. Wang (1997), J. Electrochem. Soc., 144, L15.
M. Tomozawa, K. Yang, H. Li, and S. P. Murarka (1997), Mat. Res. Soc. Symp. Proc., 337, 89
C. Zhou, L. Shan, S. H. Ng, R. Hight, A. J. Paszkowski, and S. Danyluk (2001), Mat. Res. Soc. Symp. Proc., 671, M1.6.1-M1.6.7.
II. 中文文獻
王淑貞(2004)。設備總和效率模式及詴算表之建立-以步進機為例。國立清華大學工業工程與工程管理學系碩士論文,新竹市。
吳大中(2003)。晶圓廠生產機台整體投入效率之研究。南澳洲大學碩士學分班碩士論文。
林明智(2000)。化學機械研磨的微觀機制探討。國立中央大學化學工程研究所碩士論文,桃園縣。
林振豐(2004)。應用田口方法於數位影像掃描器齒輪傳動的異音及影像對位問題之研究。國立交通大學工業工程與管理學系碩士論文,新竹市。
林雲德(2008)。應用田口方法改善接觸式三次元測量儀量測品質。國立交通大學工業工程與管理學系碩士論文,新竹市。
陳明權(2008)。應用田口方法達成拋光製程參數最佳化。國立交通大學工業工程與管理學系碩士論文,新竹市。
陳瑞琴(2005)。研磨液組成對銅/鉭化學-機械抛光電化學及表面化學特徵的影響。國立成功大學材料科學及工程學系博士論文,台南市。
劉俊昇(2001)。新產品開發階段之產品特性設計-以反光材料為例。國立中央大學工業管理研究所碩士論文,桃園縣。
謝穎欣(2005)。應用田口方法於基因演算法輸入參數設計-以求解多模式專案排程下資源撫平為例。國立中央大學工業管理研究所碩士論文,桃園縣。
陳文哲和葉宏謨(民92)。工作研究。台北市:中興管理顧問公司。
簡禎富、施義成、林振銘及陳瑞坤(民94)。半導體製造技術與管理。新竹市:國立清華大學出版社。
蘇朝墩(民95)。品質工程。台北市:中華民國品質學會。