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研究生: 羅緯
論文名稱: 拋光機台投入效率標準制定
Establishment of Polisher Input Efficiency Standards
指導教授: 許棟樑
口試委員:
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 工學院 - 工業工程與工程管理學系
Department of Industrial Engineering and Engineering Management
論文出版年: 2010
畢業學年度: 98
語文別: 中文
論文頁數: 86
中文關鍵詞: 設備總體投入效率化學機械研磨製程人機配置田口方法逐步迴歸法
外文關鍵詞: Overall Input Efficiency, Chemical Mechanical Polishing, Operator-Machine Configuration, Taguchi Method, Stepwise Regression
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  • 本研究針對拋光機的理想投入量制定其標準值,目的在於希望能夠測量設備的使用效率,而在投入面中,可將投入分為原材料、人力、廠務,以及耗材。我們對於拋光機的投入項目做分析並建立其理想之最小投入標準值,此標準將可被應用在量測拋光機之設備總體投入效率(OIE),配合綜合設備效率(OEE)使用後更將可計算出機台之設備總體效率(TEE)。
    人力投入效率方面,對於一機一線及多機一線的設備,我們建立一般性的模式以求得技術員之理想投入量。針對拋光機做研究後,發現其人力投入效率將有可能提升為兩倍。
    研磨液投入方面,本研究成功的使用田口方法,以一個反向的方式,找出研磨液之最佳投入值並同時滿足設備之目標產出量。本研究同時也對於其他投入項目,建立每單位晶圓之理想投入標準值。本研究使用的方法也將可應用在其他不同類型的設備機台,例如當完整的物理或化學公式為未知時,以理論方式計算其理想投入量是非常困難的,此時即可應用本研究的方法加以研究之。


    摘要 I Abstract II 目錄 III 圖目錄 VI 表目錄 VIII 第一章 緒論 1 1.1研究背景與動機 1 1.2研究目的 1 1.3問題描述 2 1.4成果與貢獻 2 第二章 產業說明 3 2.1產業發展 3 2.2產業特性 4 2.2.1再生晶圓使用時機 4 2.2.2晶圓再生流程 4 2.3化學機械研磨製程簡介 6 2.3.1緣由 6 2.3.2原理及目的 6 第三章 文獻探討 8 3.1 OIE之觀念 8 3.2人機配置最佳化 9 3.3 CMP中之機械變因 11 3.3.1壓力與轉速對研磨速率的影響 11 3.3.2研磨粒子對研磨速率的影響 11 3.3.3研磨墊對研磨速率的影響 13 3.4 CMP中之化學變因 13 3.4.1粒子的表面電位狀態 14 3.4.2水合層的生成 14 3.4.3水分子的作用 14 3.4.4研磨液pH值的影響 15 3.5田口方法 16 3.5.1直交表的應用 17 3.5.2參數設計實驗配置 19 3.5.3信號雜音比 19 3.5.4參數設計的步驟 21 3.5.5確認實驗 22 第四章 研究方法 24 4.1研究對象與範圍 24 4.2研究流程 24 4.3拋光機投入因子說明 24 4.4標準值訂定說明 25 4.5電力投入標準訂定方法 25 4.6人力投入標準訂定方法 26 4.6.1人機配置模式符號 26 4.6.2人機配置模式流程 27 4.7晶圓投入標準訂定方法 41 4.8研磨液投入標準訂定方法 41 4.8.1化學反應式計算方法 42 4.8.2實驗規劃 48 4.8.3逐步迴歸分析法 51 4.9去離子水投入標準訂定方法 51 第五章 實例驗證 52 5.1電力投入標準訂定 52 5.2人力投入標準訂定 52 5.2.1研究對象生產特性 52 5.2.2資料收集與驗算 53 5.2.3計算人機配置運算式之可行性 53 5.2.4模擬建構 57 5.2.5模擬結果與分析 63 5.2.6成本分析 67 5.3晶圓投入標準訂定 69 5.4研磨液投入標準訂定 69 5.4.1化學反應式計算結果 69 5.4.2實驗數據分析 72 5.4.3實驗驗證 75 5.4.4迴歸分析 76 5.4.5改善效益分析 78 5.5去離子水投入標準訂定 81 第六章 結論及未來研究方向 82 6.1結論 82 6.2未來研究方向 82 參考文獻 84

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