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研究生: 王偉信
Wei-Hsin Wang
論文名稱: 以光氧化技術處理半導體製程有機廢水
指導教授: 朱鐵吉
Tieh-Chi Chu
口試委員:
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 原子科學院 - 生醫工程與環境科學系
Department of Biomedical Engineering and Environmental Sciences
論文出版年: 2000
畢業學年度: 88
語文別: 中文
論文頁數: 81
中文關鍵詞: 光氧化
外文關鍵詞: AOPs, PGMEA, TMAH, IPA, NMP, EL, Phenol
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  • 本論文以製程的觀點,評估台灣半導體業原廢水中的可能有機物種、年度排放量及估計之排放濃度。同時將這些估計值與環保署所提供的廠商申請資料做比對,以驗證評估之可靠性。此外針對這些有機物種,評估以光氧化技術的可行性。結果指出半導體業廢水中之PGMEA、TMAH、IPA、NMP、EL及Phenol之估計濃度分別為0.272、176、9.36、4.11、0.124及0.086 mg/L,就20工廠其每年由廢水所排放的有機物質約有4560公噸,而原廢水的COD估計約為182.5 mg/L。由TOC與GC-MS所得的結果,可知光氧化反應器的方法,其對水中PGMEA、IPA、EL及Phenol等有機物之礦化具有不錯效果。


    摘要 …………………………………………………………………….……. Ⅰ 誌謝 …………………………………………………………………………... Ⅱ 總目錄 ………………………………………………………………………….. Ⅲ 圖目錄 ………………………………………………………………………….. Ⅴ 表目錄 ………………………………………………………………………….. VII 第一章 前言 ………………………………………………………. 1 第二章 研究目的與背景 …………………………………………. 3 2.1 光氧化實驗研究背景 ………………………………………………………. 6 2.2半導體製程簡介 ……………………………………………….…..………... 7 2.3 光罩製程簡介 ……………………………………………………...……….. 11 2.4 半導體製程排放廢水 ………………………………………………………. 13 2.5 現有之半導體製程廢水處理技術 ……………………………..…………. 18 第三章 實驗原理與結果討論 ……………………………………. 21 3.1紫外線光反應原理 ………………………………………………………….. 21 3.1.1 直接光解 …………………………………………………………….. 22 3.1.2 間接光解 …………………………………………………………….. 23 3.2 紫外線高級氧化法之應用 …………………………………………………. 28 3.3估計半導體工廠之製程排放有機物質濃度 ……………………………….. 29 3.4半導體工廠排放有機物的化學特性 ……………………………………….. 34 3.4.1 PGMEA ……………………………………………………………. 34 3.4.2 TMAH ……………………………………………………..………. 35 3.4.3 IPA …………………………………………………………………. 35 3.4.4 NMP ………………………………………………………..………. 36 3.4.5 EL ………………………………………………………………..…. 36 3.4.6 Phenol ………………………………………………………...……. 36 3.4.7 基本資料 …………………………………………………………… 37 3.5 藥品及實驗設備及分析方法 ………………………………………………. 38 3.5.1 紫外線/H2O2實驗所需藥品及設備 ……………………..………….. 38 3.5.2 紫外線/H2O2實驗系統建構 ………………………………..……….. 39 3.5.3 水中有機物分析方法 ………………………………………..……… 40 3.5.4 紫外線/H2O2實驗設計及流程 ……………………………..……….. 42 3.6 紫外線/H2O2系統研究結果與討論 ………………………………………... 45 3.6.1 PGMEA最佳操作參數 …………………………………………… 45 3.6.2 TMAH最佳操作參數 …………………………………………...… 47 3.6.3 IPA最佳操作參數 ………………………………………………… 49 3.6.4 NMP最佳操作參數 ……………………………………………..… 52 3.6.5 EL最佳操作參數 …………………………………………..……… 54 3.6.6 Phenol最佳操作參數 ……………………………………………… 56 3.7 以GC-MS分析UV/H2O2照射有機物後之副產物………………………… 59 3.8 模擬實際廢水經UV/H2O2照射分解後之結果 …………………………… 74 第四章 結論 …………………………………………………………..……… 77 參考文獻 ………………………………………………………………………. 80

    參考文獻
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