簡易檢索 / 詳目顯示

回結果列表
研究生： 謝永釗
Yung-Chao Hsieh
論文名稱： 電感偶合電漿特性分析
Diagnosis of an inductively coupled plasmas
指導教授： 寇崇善
Chwung-Shan Kou
口試委員:
學位類別： 碩士
Master
系所名稱： 理學院 - 物理學系
Department of Physics
論文出版年： 2007
畢業學年度： 95
語文別： 中文
論文頁數： 49
中文關鍵詞： 電漿 、電感偶合電漿 、探針 、光譜儀 、質譜儀
外文關鍵詞： plasma, inductively coupled plasma, Langmuir probe, oes, ms
相關次數： 點閱：3  下載：0 
分享至:
查詢本校圖書館目錄 查詢臺灣博碩士論文知識加值系統 勘誤回報

    • 電感式偶合電漿源（Inductively coupled plasma source）是目前半導體製造業中被廣泛應用的電漿源系統，而電漿密度與電子溫度更是製程作業中重要的參數，此篇論文的研究主題就是電感偶合電漿的特性分析，以氬氣與氧氣為研究對象，在外加RF功率25W至200W、氣壓1 mTorr至10 mTorr的操作條件下，使用Langmuir probe量測電漿密度與電子溫度；光譜儀量測電漿粒子的放射譜線，並且以理論模型為依據，配合探針量測結果，計算電子溫度；質譜儀量測電漿內離子數目變化情形。透過這三種量測方法將有助於了解電感偶合電漿特性。

    第一章 簡介 1.1 前言 1 1.2 電感式偶合電漿源簡介 1 1.3 研究目的 3 第二章 實驗設備系統 2.1 電感偶合電漿源系統簡介 4 2.2 量測系統簡介 7 第三章 理論分析 3.1 Langmuir probe探針理論 20 3.1-1 I-V特性曲線分析 20 3.1-2 圓柱型探針 23 3.1-3 數據計算 25 3.2 Corona電漿模型理論 26 3.3 電漿擴散理論 28 第四章 實驗結果與討論 4.1 電漿密度及電漿離子數目量測 30 4.1-1 改變RF功率 30 4.1-2 改變壓力 34 4.2 電子溫度量測 41 4.2-1 數據處理 41 4.2-2 結果分析 44 第五章 結論 5.1 實驗結論 49 5.2 推廣應用 49

    [1] J. Hopwood, Plasma Sources Sci. Technol., Vol 1, 2, p.109, 1992.
    [2] R. B. Piejak, V. A. Godyak, and B. M. Alexandrovich, Plasma Sources Sci. Technol. , Vol 1, 3, p.179, 1992.
    [3] W. W. MacAlpine, and R. O. Schildknecht, Proc. IRE, Vol 47, 12, p2099, 1959.
    [4] F. F. Chen, in Plasma Diagnostic Techniques, Ed. by R. H. Huddlestone and S. L. Leonard (Academic , New York, 1965), p.113-p.199.
    [5] J. Felts and E. Lopata, J. Vac. Sci. Technol. A, Vol 6, p.2051, 1988.
    [6] H. Kawata, K. Murata, and K. Nagami, J. Vac. Sci. Technol. B, Vol 4, p.6, 1987.
    [7] Douglas A. Skoog, F. James Holler, and Timothy A. Nieman, Principles of Instrumental Analysis.
    [8] I. Langmuir, and H. M. Mott-Smith, Phys. Rev., Vol 28, 4, p.727, 1926.
    [9] A. Orlando, and L. F. Daniel, “Plasma Diagnostics”, 1986.
    [10] J. E. Heidenreich Ⅲ, J. R. Paraszczak, M. Moisan, and G. Suave, J. Vac. Sci. Technol. B, Vol 5, p.347, 1987.
    [11] H. R. Griem, Plasma Spectroscopy (McGraw-Hill, New York, 1964).
    [12] John S. McKillop, John C. Forster, and William M. Holber, J. Vac. Sci. Technol. A, Vol 7, p.908, 1989.
    [13] T. I. Cox (personal communication, 1990).
    [14] R. W. P. McWhirter, in Ref. 4, p.201-p.264.
    [15] D. A. O. Hope, T. I. Cox, and V. G. I. Deshmukh, Vacuum, Vol 37, 3/4, p.275-p.277, 1987.
    [16] Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg, Principles of Plasma Discharges and Materials Processing, Wiley, New York, 1994.
    [17] Francis F. Chen, Introduction to Plasma Physics and Controlled Fusion, Plnum Press, New York, 1983.
    [18] A. A. Shatas, Y. Z. Hu, and E. A. Irene, J. Vac. Sci. Technol. A, Vol 10, 5, p.3119, 1992.

    無法下載圖示 全文公開日期 本全文未授權公開 (校內網路)
    全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)

    QR CODE