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研究生: 黃則斌
論文名稱: 多次曝光雷射干涉微影以及多道光雷射干涉微影在奈米級圖案化藍寶石基板製程上之產能比較及最佳化曝光設備之設計
Throughput Comparison of Multi-Exposure and Multi-Beam Laser Interference Lithography (LIL) on Nano Patterned Sapphire Substrate Process and Design of Optimized Lithography Apparatus
指導教授: 傅建中
口試委員: 賴芳儀
藍宇彬
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 工學院 - 奈米工程與微系統研究所
Institute of NanoEngineering and MicroSystems
論文出版年: 2013
畢業學年度: 101
語文別: 中文
論文頁數: 83
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