簡易檢索 / 詳目顯示

回結果列表
研究生： 劉亦凡
Liu, Yi-Fan
論文名稱： 鋁合金表面經臭氧水清洗之真空釋氣研究
指導教授： 陳俊榮
口試委員:
學位類別： 碩士
Master
系所名稱： 原子科學院 - 生醫工程與環境科學系
Department of Biomedical Engineering and Environmental Sciences
論文出版年： 2006
畢業學年度： 95
語文別： 中文
論文頁數： 97
中文關鍵詞： 臭氧水 、鋁合金 、釋氣 、酒精加工 、熱釋氣 、光子引發釋氣
相關次數： 點閱：1  下載：0 
分享至:
查詢本校圖書館目錄 查詢臺灣博碩士論文知識加值系統 勘誤回報

    • 本論文目的為研究以臭氧水清洗鋁合金表面後對真空釋氣的影響。實驗中比較了酒精加工、酒精加工後以臭氧水清洗及一般化學清洗等處理方法的效果，在實驗中進行了(1)熱釋氣測量(2)歐傑電子能譜測量(3)光子引發釋氣測量(4)功函數(凱文探針)測量，以及(5)表面粗糙度測量來比較出清洗效果。

    摘要----------------------------------------------------------------------------------i 誌謝---------------------------------------------------------------------------------ii 目錄--------------------------------------------------------------------------------iii 表目錄---------------------------------------------------------------------------- vi 圖目錄----------------------------------------------------------------------------vii 第一章、 引言---------------------------------------------------------------------1 第二章、 原理---------------------------------------------------------------------5 一、釋氣基本原理 ------------------------------------------------------5 二、清洗原理--------------------------------------------------------------10 三、歐傑電子能譜儀原理-----------------------------------------------16 四、凱文探針原理--------------------------------------------------------17 第三章、 實驗系統與步驟 ---------------------------------------------------18 一、實驗樣品------------------------------------------------------------18 1.熱釋氣分析樣品----------------------------------------------------18 2.光子引發釋氣分析樣品-------------------------------------------18 3.表面分析及功函數分析樣品-------------------------------------19 二、樣品清洗系統------------------------------------------------------19 1.化學清洗系統-------------------------------------------------------19 2.臭氧水清洗系統----------------------------------------------------20 三、分析系統及實驗步驟---------------------------------------------22 1.熱釋氣系統----------------------------------------------------------22 2.歐傑電子能譜儀----------------------------------------------------22 3.光子引發釋氣-------------------------------------------------------23 4.凱文探針功函數量測系統----------------------------------------25 5.表面粗糙度儀-------------------------------------------------------25 第四章、 結果 ------------------------------------------------------------------27 一、熱釋氣率分析系統-------------------------------------------------27 1.單位面積釋氣率----------------------------------------------------27 2.抽氣時抽最初10小時的釋氣率曲線---------------------------28 3.殘餘氣體質譜分析-------------------------------------------------28 二、表面分析------------------------------------------------------------28 1.AES表面成分分析------------------------------------------------29 2.氧化層量測----------------------------------------------------------29 三、光子引發釋氣量測結果------------------------------------------29 四、功函數量測結果---------------------------------------------------30 五、表面粗糙度量測結果---------------------------------------------30 第五章、 討論 ------------------------------------------------------------------32 一、釋氣率及表面潔淨度---------------------------------------------32 二、表面結構及釋氣行為---------------------------------------------34 三、實驗誤差------------------------------------------------------------35 第六章、 結論 ------------------------------------------------------------------38 參考文獻 ------------------------------------------------------------------------40 表 ---------------------------------------------------------------------------------45 圖 ---------------------------------------------------------------------------------57 附錄、PSD光束線前端區連鎖系統操作步驟----------------------------97

    1.　H. Ishimaru, “All-aluminum-alloy ultrahigh vacuum system for large-scale electron-positron collider”, J. Vac. Sci. Technol. A 2, 1170(1984).

    2. A.G. Mathewson, “Comparison of chemical cleaning methods of aluminum alloy vacuum chamber for electron storage rings”, J. Vac. Sci. Technol. A7 (1), 77 (1988).

    3. 陳俊榮，王敏惠，曾湖興，劉遠中，“不鏽鋼超高真空容器輝光放電清洗之研究”，真空科技 1(1)，13-17 (1987).

    4. G. Raiteri and A. Calcatelli, “Thermal desorption from stainless steel samples coated with TiN and oxide layers”, Vacuum 62, 7 (2001).

    5. K.J. Middleman, J.D. Herbert and R.J. Reid, “A study of cleaning agents for stainless steel for ultra high vacuum use” , Vacuum 47, 693 (1996).

    6. C. Benvenuti, G. Canil, P. Chiggiato, P. Collin, R. Cosso, J. Guerin, S. Ilie, D.Latorre and K.S. Neil, “Surface cleaning efficiency measurements for UHV applications”, Vacuum 53, 317-320 (1999).

    7. T. Ohmi, “Total Room Temperature Wet Cleaning for Si Substrate Surface”, J. Electrochem. Soc. 143, 2957 (1996).
    8. K. Tatenuma, T. Momose and H. Ishimaru, “Quick acquisition of clean ultrahigh vacuum by chemical process technology”, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 1719 (1993).

    9. T. Momose, Y. Maeda, K. Asano and Ishimaru, “Surface analysis of carbon on ozone treated metals”, J. Vac. Sci. Technol. A 13(3), 515 (1995).

    10. J.R. Chen, G.S. Chen, D.J. Wang, G.Y. Hsiung, and Y.C. Liu, “An Aluminum Vacuum Chamber for the Bending Magnet of the SRRC Synchrotron Light Source”, Vacuum 41, 2079-2081 (1990).

    11. Takashi Momose, Kiyomitsu Asano, Yutaka Katoh and Hajime Ishimaru, “Surface characteristics of Al and several metals from view point to reduce dynamic gas desorption”, Vacuum 44, 319-324 (1996).

    12. 鄧宗禹、蔡明蒔， “以臭氧超純水清洗晶圓表面之簡介及應用”， 1.　微毫米通訊第八卷第二期，36-46，(2001).

    13. John F. O'Hanlon, “A User's Guide to Vacuum Technology,” John Wiley & Sons, New York (1980).

    14. R. J. Elsey, “Outgassing of vacuum material,” Vacuum 25, 299 (1975).

    15. Redhead, P. A. Hobson, J. P. Kornelsen, “The Physical basis of ultrahigh vacuum”, American Institute of Physics, (1993).
    16. 劉遠中，陳俊榮，曾湖興，徐武雄 “超高真空系統的研究”，核子科學 21(3)，168-174(1984).

    17. 百瀨丘，陳俊榮，金澤健一，石丸肇，KEK Report 87-8，.(1987)，pp.137.

    18.O. Grobner and A. G. Mathewson, “Study of photon induced gas desorption using synchrotron radiation”, Vacuum 33, 397-406 (1983).

    19. 陳定全，熊高鈺，陳俊榮，“電子儲存環真空系統之氣壓分布計
    算”，真空科技 1(1)，24-29 (1987).

    20. 洪榮洲，“結合微細放電與電解拋光之微孔加工研究” ，碩士論文，國立中央大學機械工程研究所，(2004).

    21. 簡弘民，盧信忠，黃尊祐，蔡春進，“半導體晶圓表面清洗技術發展”，勞工安全衛生研究季刊第7卷2期，209-229(2001).

    22. A.G. Mathewson, “The surface cleanliness of 316 L+N stainless steel studied by SIMS and AES”, Vacuum 24, 505-509 (1974).

    23. W. Kern, “Handbook of semiconductor wafer cleaning technology science, technology, and applications,” William Andrew Publishing, Park Ridge, NJ(1993).

    24.J. G. Park and J. H. Han, “The behavior of ozone in wet cleaning chemicals,” in Proc. 5th Int. Symp. Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing, Paris, France, (1998), pp.231.

    25. Lawrence E Davis, “Handbook of Auger electron spectroscopy : a reference book of standard data for identification and interpretation of Auger electron spectroscopy data,” Physical Electronics Industries Inc.
    (1997).

    26. .I. D. Baikie, U. Peterman, B. Lagel K. Dirscherl, “Study of high- and low-work-function surfaces for hyperthermal surface ionization using an absolute Kelvin probe,” J. Vac. Sci. Technol. A 19, 1460 (2001).

    27. A. Benninghoven, F. G. Rudenauer and H. W. Werner, “Secondary ion mass spectrometry, Basic concepts, Instrumental aspects,Application trends”, John Wiley & Sons, New York (1987).

    28. 詹哲鎧，“鋁合金真空材料光子引發釋氣系統改進與研究”，碩士論文，國立清華大學原子科學系，(1998).

    29. 楊財烈，“鋁合金表面曝水後受光照射作用之探討”，碩士論文，國立清華大學原子科學系，(2003).

    30. 羅文彬，“以二次離子質譜術分析鋁合金表面曝水後受光照射之作用”，碩士論文，國立清華大學原子科學系，(2004).

    31. 陳俊榮，劉遠中， “鋁合金超高真空材料釋氣之研究”， 科學發展月刊 15(6)， 715-735 (1987).

    32.Y. J. Hsu, S. H. Chang, L. W. Chuang, T. S. Ueng and J. R. Chen,“Study of photon stimulated desorption on aluminum alloy with

    32.　synchrotron light,” Applied Surface Science 169-170, 711 (2001).

    33. .A. G. Mathewson, G. Horikoshi and H. Mizuno, “Some Notes on the photoelectron induced gas desorption problems in the Photon Factor and Tristan,” KEK-78-9,(1978).

    34. 劉遠中，黃俊儒，吳宗岳，陳俊榮，“以不同濕度之氣體研究鋁合金表面熱釋氣”，真空科技 5(3,4)，8-13 (1992).

    35. J.R. Chen, J.R. Huang, G.Y. Hsiung, T.Y. Wu, and Y.C.Liu, “Outgassing Behavior on Aluminum Surfaces - Water in Vacuum Systems”, J. Vac. Sci. & Technol. A12(4), 1750-1754 (1994).

    無法下載圖示 全文公開日期 本全文未授權公開 (校內網路)
    全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)

    QR CODE