簡易檢索 / 詳目顯示
| 研究生： |
李政遠 Li, Cheng-Yuan |
|---|---|
| 論文名稱： |
元素含量及電漿處理於閘介面層對矽鍺鰭式場效電晶體之電特性影響研究 Effects of Element Contents and Plasma Treatments in Gate Interfacial Layer on Electrical Characteristics of SiGe FinFET |
| 指導教授： |
張廖貴術
Chang Liao, Kuei-Shu |
| 口試委員: |
羅廣禮
朱俊霖 |
| 學位類別： |
碩士 Master |
| 系所名稱： |
原子科學院 - 工程與系統科學系 Department of Engineering and System Science |
| 論文出版年： | 2022 |
| 畢業學年度： | 110 |
| 語文別： | 中文 |
| 論文頁數： | 89 |
| 相關次數： | 點閱：3 下載：0 |
| 分享至: |
| 查詢本校圖書館目錄 查詢臺灣博碩士論文知識加值系統 勘誤回報 |
全文公開日期 2027/07/26 (校內網路)全文公開日期 2027/07/26 (校外網路)