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研究生: 郭伯璉
Kuo, Bo-Lien
論文名稱: 應用不同氧化製程於閘堆疊對鍺鰭式電晶體電特性之影響
Effects of various oxidation processes for gate stack on electrical characteristics of Ge FinFET.
指導教授: 張廖貴術
Chang-Liao, Kuei-Shu
連振炘
Lien, Chen-Hsin
口試委員: 趙天生
Chao, Tien-Sheng
李耀仁
Lee, Yao-Jen
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 電機資訊學院 - 電子工程研究所
Institute of Electronics Engineering
論文出版年: 2021
畢業學年度: 109
語文別: 中文
論文頁數: 102
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  • 無法下載圖示 全文公開日期 2026/10/12 (校內網路)
    全文公開日期 2026/10/12 (校外網路)

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