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研究生: 李世文
Lee, S. W.
論文名稱: 線型雙源電漿源系統開發與特性分析
Development and Characteristics Analysis of Linear Double Plasma Sources
指導教授: 寇崇善
Kou, Chwung-Shan
口試委員:
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 理學院 - 物理學系
Department of Physics
論文出版年: 2009
畢業學年度: 97
語文別: 中文
論文頁數: 53
中文關鍵詞: 電感耦合式電漿源微波電漿源線型表面波
外文關鍵詞: ICP, microwave plasma source, linear, surface wave
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  • 目前大面積微波電漿源,多是利用大片石英板做為電磁波耦合窗口,面積越大,石英板厚度越厚,所需的功率亦隨之增加,散熱也是問題之一。故實驗中採用線型微波電漿源激發電漿,由於為圓柱型結構,壓力分散,石英管厚度較薄,同功率下激發效果也較好。
    線型微波源在上階段的研究中加入同軸慢波結構,以激發電漿表面波,此結構優點為(1)微波以表面波方式傳遞,能量損失較少(2)微波傳輸波長縮短,空間中的駐波亦縮短,對電漿均勻性有一定的幫助。
    另一方面,因為射頻功率波長較長(13.56MHz),對電漿穿透度高,較易激發長尺寸電漿,故加入電感式耦合電漿(ICP)射頻功率源系統,以提高微波源均勻激發電漿的能力。本研究探討線性電感式電漿,與線型微波電漿的優點,以產生長尺寸穩定之電漿系統。實驗結果顯示,線型微波源加入射頻功率後,激發長度明顯增長,且密度可達1011cm-3為高密度電漿源。


    目錄 第一章 簡介 1 1.1前言 1 1.2線型雙源電漿源產生機制 2 1.2.1射頻電漿源 2 1.2.2微波電漿源 3 1.3研究目的 6 第二章 實驗設備系統 8 2.1雙源電漿源系統介紹 8 2.2 Langmuir probe量測系統 15 2.2.1探針結構 16 2.2.2介面控制 19 第三章 電漿量測理論分析 21 3.1 Langmuir Probe 簡介 21 3.1.1 Langmuir Probe 理論 22 3.1.2 Langmuir Probe I-V curve 分析 23 3.1.3 I-V curve 數據分析 26 3.1.4 Langmuir Probe數據處理 29 3.2 RF電路補償 30 第四章 實驗結果與討論 33 4.1 離子飽和電流 33 4.1.1微波功率源量測 33 4.1.2 射頻功率源量測 35 4.1.3 射頻功率源對微波之影響 38 4.2 電漿密度 40 4.2.1微波功率源量測 40 4.2.2射頻功率源量測 42 4.2.3 射頻功率源對微波之影響 44 4.3 E-H mode transition 46 第五章 結論 50 5.1 實驗結論 50 參考資料 52

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