研究生: |
李世文 Lee, S. W. |
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論文名稱: |
線型雙源電漿源系統開發與特性分析 Development and Characteristics Analysis of Linear Double Plasma Sources |
指導教授: |
寇崇善
Kou, Chwung-Shan |
口試委員: | |
學位類別: |
碩士 Master |
系所名稱: |
理學院 - 物理學系 Department of Physics |
論文出版年: | 2009 |
畢業學年度: | 97 |
語文別: | 中文 |
論文頁數: | 53 |
中文關鍵詞: | 電感耦合式電漿源 、微波電漿源 、線型 、表面波 |
外文關鍵詞: | ICP, microwave plasma source, linear, surface wave |
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目前大面積微波電漿源,多是利用大片石英板做為電磁波耦合窗口,面積越大,石英板厚度越厚,所需的功率亦隨之增加,散熱也是問題之一。故實驗中採用線型微波電漿源激發電漿,由於為圓柱型結構,壓力分散,石英管厚度較薄,同功率下激發效果也較好。
線型微波源在上階段的研究中加入同軸慢波結構,以激發電漿表面波,此結構優點為(1)微波以表面波方式傳遞,能量損失較少(2)微波傳輸波長縮短,空間中的駐波亦縮短,對電漿均勻性有一定的幫助。
另一方面,因為射頻功率波長較長(13.56MHz),對電漿穿透度高,較易激發長尺寸電漿,故加入電感式耦合電漿(ICP)射頻功率源系統,以提高微波源均勻激發電漿的能力。本研究探討線性電感式電漿,與線型微波電漿的優點,以產生長尺寸穩定之電漿系統。實驗結果顯示,線型微波源加入射頻功率後,激發長度明顯增長,且密度可達1011cm-3為高密度電漿源。
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