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研究生: 陳翊昇
Chen, Yi-Sheng
論文名稱: TiO2添加CuO之活化燒結
Activated Sintering of CuO-Doped TiO2
指導教授: 簡朝和
Jean, Jau-Ho
口試委員:
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 工學院 - 材料科學工程學系
Materials Science and Engineering
論文出版年: 2009
畢業學年度: 97
語文別: 中文
論文頁數: 51
中文關鍵詞: 二氧化鈦氧化銅活化燒結阻抗分析
外文關鍵詞: TiO2, CuO, Activated Sintering, Impedance Analysis
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  • 本文探討添加氧化銅(CuO)的二氧化鈦(TiO2)在低於其共晶溫度時的燒結機制。
    於TiO2中添加奈米尺度的CuO 達0.5wt%以上,即可在低於共晶溫度的875℃持溫2小時下燒結緻密,經由熱差分析與表面成分分析,確認此條件下尚未生成液相而排除了液相燒結的可能性,並經由微結構觀察、成分與阻抗頻譜分析後得知:緻密的條件為一種富含Cu的薄膜存在於晶粒之間,此薄膜加速了晶粒間的擴散,進而使TiO2-CuO在低於共晶溫度下的溫度就能燒結緻密。
    而緻密的試片在3.7GHz的共振頻率下,介電常數可達100以上,介電損失達0.3%以下,品質因子可達1.5× 104以上。


    一、前言 1 二、實驗方法 5 2.1 粉末製備 5 2.2 燒結試片製備與緻密度量測 5 2.3 微結構觀察與元素分布分析 6 2.4 粉末吸放熱量測 7 2.5 粉體表面電位量測 7 2.6 X-ray繞射分析 8 2.7 阻抗頻譜分析 8 2.8 高頻介電性質試片製備與量測 9 三、結果與討論 11 3.1 燒結緻密化 11 3.2 非液相燒結 12 3.3燒結過程之微結構觀察 12 3.4粉體表面分析 13 3.5富含Cu之薄膜成份與膜厚分析 14 3.6富含Cu薄膜的成份分佈與微結構 15 3.7加入CuO臨界量的推導 16 3.8 阻抗頻譜分析 17 3.9 介電性質 21 四、結論 23 五、參考文獻 24

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