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| 研究生： |
熊哲佑 Hsiung, Je-You |
|---|---|
| 論文名稱： |
應用氫電漿於通道與低溫氧化閘介電層以改善鍺閘環繞式和三層奈米片電晶體之電特性研究 Improved Electrical Characteristics of Ge GAA and Three-Tier Nanosheet FET with Hydrogen Plasma on Channel and Low Temperature Oxidation on Gate Dielectric |
| 指導教授： |
張廖貴術
Chang-Liao, Kuei-Shu |
| 口試委員: |
趙天生
Chao, Tien-Sheng 李耀仁 Lee, Yao-Jen |
| 學位類別： |
碩士 Master |
| 系所名稱： |
原子科學院 - 工程與系統科學系 Department of Engineering and System Science |
| 論文出版年： | 2025 |
| 畢業學年度： | 113 |
| 語文別： | 中文 |
| 論文頁數： | 118 |
| 相關次數： | 點閱：3 下載：0 |
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全文公開日期 2030/02/04 (校內網路)全文公開日期 2030/02/04 (校外網路)