研究生: |
周宗毅 Tsung-Yi, Chou |
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論文名稱: |
新型化學氣相沉積前驅物的設計合成及其應用 |
指導教授: |
季昀
Yun Chi |
口試委員: | |
學位類別: |
博士 Doctor |
系所名稱: |
理學院 - 化學系 Department of Chemistry |
論文出版年: | 2004 |
畢業學年度: | 93 |
語文別: | 中文 |
論文頁數: | 91 |
中文關鍵詞: | 化學氣相沉積 、鈷金屬 、氧化鈷 、銅金屬 、薄膜 、可液化化學氣相沉積 |
外文關鍵詞: | Chemical vapor deposition, cobalt, cobalt oxide, copper, film, DLI-CVD |
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在本篇論文中,我們成功的合成了兩類型之金屬錯合物,分別為鈷與銅金屬,並探討其在化學氣相沉積實驗之應用。
利用六氟戊酮亞胺或六氟-2-丙醇氨作為配位基與氯化鈷進行反應,可成功的得到一系列具有高度穩定性、高產率的化合物。選用化合物1b、6b利用簡易型熱壁式化學氣相沉積裝置進行薄膜的沉積,可成功的製作出鈷金屬或氧化鈷的薄膜;利用1,1,1,4,4,4-六氟-2,3-二(三氟甲基)-2,3-丁二醇 (PFP) 作為配位基與氯化銅反應,可以得到具有可自身還原能力的二價銅金屬錯合物8b,利用熱裂解實驗,分析裂解後所生成的化合物,可證明此一特殊現象;在化學氣相沉積實驗中,8b可成功地在氬氣與氫氣環境下製備出銅金屬薄膜,為克服其揮發性不佳的缺點,並設計出可液化化學氣相沉積裝置 (DLI-CVD, direct liquid injection CVD),來製備銅金屬薄膜。
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